Engineering Clean Room and 301 Show/Hide Navigation
Go
Back 22/07/2018 - 28/07/2018 Forward
Reservable
Unreservable
Reserved
My Reservation
Participant
Pending
Past
Restricted
 
Resource Filter
Advanced Filter

Minimum Capacity
Resource Type

Sunday, 22/07/2018 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite                                                  
301 Oven Vulcan                                                  
AJA ION Milling                                                  
Versaline_DSE                                                  
Vinci_Evaporator                                                  
Suss MA-6 double side Mask Aligner                                                  
Suss RC-8 spin coater                                                  
Headway spin coater                                                  
Nextral 860 RIE/HDP plasma etcher                                                  
PlasmaTherm SLR-770 ICP Deep Reactive Ion Etcher                                                  
EDWARDS-306 e-beam evaporator                                                  
MRC 8620 RF Sputtering System                                                  
Vacuum oven 301                                                  
Silicon wet etch station (Double book allowed)                                                  
Wet bench for acid processes (Double book allowed)                                                  
Photoresist deposition bench (Double book allowed)                                                  
Photoresist developing/samples cleaning bench (Double book allowed)                                                  
KLA P16 Stylus Profiler                                                  
Woollam M-2000 DUV Spectroscopic Ellipsometer                                                  
DISCO 3350 dicing saw                                                  
Oerlikon 790 series PE CVD system                                                  
Jipelek JetFirst 100 Rapid Thermal Processor                                                  
Tousimis Critical Point Dryer                                                  
Plasma Preen                                                  
Electrochemical Bench, 301 room                                                  
Penta DC/RF Sputtering System                                                  
Olympus LEXT 4000 confocal microscope                                                  
K\&S Wire bonder - wedge                                                  
K\&S Wire bonder - ball                                                  
Monday, 23/07/2018 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite                                                                    
301 Oven Vulcan                                                                    
AJA ION Milling                                                                    
Versaline_DSE                                                                    
Vinci_Evaporator                                                                    
Suss MA-6 double side Mask Aligner                                                                    
Suss RC-8 spin coater                                                                    
Headway spin coater                                                                    
Nextral 860 RIE/HDP plasma etcher                                                                    
PlasmaTherm SLR-770 ICP Deep Reactive Ion Etcher                                                                    
EDWARDS-306 e-beam evaporator                                                                    
MRC 8620 RF Sputtering System                                                                    
Vacuum oven 301                                                                    
Silicon wet etch station (Double book allowed)                                                                    
Wet bench for acid processes (Double book allowed)                                                                    
Photoresist deposition bench (Double book allowed)                                                                    
Photoresist developing/samples cleaning bench (Double book allowed)                                                                    
KLA P16 Stylus Profiler                                                                    
Woollam M-2000 DUV Spectroscopic Ellipsometer                                                                    
DISCO 3350 dicing saw                                                                    
Oerlikon 790 series PE CVD system                                                                    
Jipelek JetFirst 100 Rapid Thermal Processor                                                                    
Tousimis Critical Point Dryer                                                                    
Plasma Preen                                                                    
Electrochemical Bench, 301 room                                                                    
Penta DC/RF Sputtering System                                                                    
Olympus LEXT 4000 confocal microscope                                                                    
K\&S Wire bonder - wedge                                                                    
K\&S Wire bonder - ball                                                                    
Tuesday, 24/07/2018 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite                                                                    
301 Oven Vulcan                                                                    
AJA ION Milling                                                                    
Versaline_DSE                                                                    
Vinci_Evaporator                                                                    
Suss MA-6 double side Mask Aligner                                                                    
Suss RC-8 spin coater                                                                    
Headway spin coater                                                                    
Nextral 860 RIE/HDP plasma etcher                                                                    
PlasmaTherm SLR-770 ICP Deep Reactive Ion Etcher                                                                    
EDWARDS-306 e-beam evaporator                                                                    
MRC 8620 RF Sputtering System                                                                    
Vacuum oven 301                                                                    
Silicon wet etch station (Double book allowed)                                                                    
Wet bench for acid processes (Double book allowed)                                                                    
Photoresist deposition bench (Double book allowed)                                                                    
Photoresist developing/samples cleaning bench (Double book allowed)                                                                    
KLA P16 Stylus Profiler                                                                    
Woollam M-2000 DUV Spectroscopic Ellipsometer                                                                    
DISCO 3350 dicing saw                                                                    
Oerlikon 790 series PE CVD system                                                                    
Jipelek JetFirst 100 Rapid Thermal Processor                                                                    
Tousimis Critical Point Dryer                                                                    
Plasma Preen                                                                    
Electrochemical Bench, 301 room                                                                    
Penta DC/RF Sputtering System                                                                    
Olympus LEXT 4000 confocal microscope                                                                    
K\&S Wire bonder - wedge                                                                    
K\&S Wire bonder - ball                                                                    
Wednesday, 25/07/2018 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite                                                                    
301 Oven Vulcan                                                                    
AJA ION Milling                                                                    
Versaline_DSE                                                                    
Vinci_Evaporator                                                                    
Suss MA-6 double side Mask Aligner                                                                    
Suss RC-8 spin coater                                                                    
Headway spin coater                                                                    
Nextral 860 RIE/HDP plasma etcher                                                                    
PlasmaTherm SLR-770 ICP Deep Reactive Ion Etcher                                                                    
EDWARDS-306 e-beam evaporator                                                                    
MRC 8620 RF Sputtering System                                                                    
Vacuum oven 301                                                                    
Silicon wet etch station (Double book allowed)                                                                    
Wet bench for acid processes (Double book allowed)                                                                    
Photoresist deposition bench (Double book allowed)                                                                    
Photoresist developing/samples cleaning bench (Double book allowed)                                                                    
KLA P16 Stylus Profiler                                                                    
Woollam M-2000 DUV Spectroscopic Ellipsometer                                                                    
DISCO 3350 dicing saw                                                                    
Oerlikon 790 series PE CVD system                                                                    
Jipelek JetFirst 100 Rapid Thermal Processor                                                                    
Tousimis Critical Point Dryer                                                                    
Plasma Preen                                                                    
Electrochemical Bench, 301 room                                                                    
Penta DC/RF Sputtering System                                                                    
Olympus LEXT 4000 confocal microscope                                                                    
K\&S Wire bonder - wedge                                                                    
K\&S Wire bonder - ball                                                                    
Thursday, 26/07/2018 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite