Engineering Clean Room and 301 Show/Hide Navigation
Go
Back 23/09/2017 - 29/09/2017 Forward
Reservable
Unreservable
Reserved
My Reservation
Participant
Pending
Past
Restricted
 
Resource Filter
Advanced Filter

Minimum Capacity
Resource Type

Saturday, 23/09/2017 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite                                                                    
301 Oven Vulcan                                                                    
AJA ION Milling                                                                    
Versaline_DSE                                                                    
Suss MA-6 double side Mask Aligner                                                                    
Suss RC-8 spin coater                                                                    
Headway spin coater                                                                    
Nextral 860 RIE/HDP plasma etcher                                                                    
PlasmaTherm SLR-770 ICP Deep Reactive Ion Etcher                                                                    
EDWARDS-306 e-beam evaporator                                                                    
MRC 8620 RF Sputtering System                                                                    
Vacuum oven 301                                                                    
Silicon wet etch station (Double book allowed)                                                                    
Wet bench for acid processes (Double book allowed)                                                                    
Photoresist deposition bench (Double book allowed)                                                                    
Photoresist developing/samples cleaning bench (Double book allowed)                                                                    
KLA P16 Stylus Profiler                                                                    
Woollam M-2000 DUV Spectroscopic Ellipsometer                                                                    
DISCO 3350 dicing saw                                                                    
Oerlikon 790 series PE CVD system                                                                    
Jipelek JetFirst 100 Rapid Thermal Processor                                                                    
Tousimis Critical Point Dryer                                                                    
Plasma Preen                                                                    
Electrochemical Bench, 301 room                                                                    
Penta DC/RF Sputtering System                                                                    
Olympus LEXT 4000 confocal microscope                                                                    
K\&S Wire bonder - wedge                                                                    
K\&S Wire bonder - ball                                                                    
Sunday, 24/09/2017 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite                                                                    
301 Oven Vulcan                                                                    
AJA ION Milling                                                                    
Versaline_DSE                                                                    
Suss MA-6 double side Mask Aligner                                                            
Suss RC-8 spin coater                                                                    
Headway spin coater                                                            
Nextral 860 RIE/HDP plasma etcher                                                                    
PlasmaTherm SLR-770 ICP Deep Reactive Ion Etcher                                                                    
EDWARDS-306 e-beam evaporator                                                                    
MRC 8620 RF Sputtering System                                                                    
Vacuum oven 301                                                                    
Silicon wet etch station (Double book allowed)                                                                    
Wet bench for acid processes (Double book allowed)                                                                
Photoresist deposition bench (Double book allowed)                                                                    
Photoresist developing/samples cleaning bench (Double book allowed)                                                                    
KLA P16 Stylus Profiler                                                                    
Woollam M-2000 DUV Spectroscopic Ellipsometer                                                                    
DISCO 3350 dicing saw                                                                    
Oerlikon 790 series PE CVD system                                                                    
Jipelek JetFirst 100 Rapid Thermal Processor                                                                    
Tousimis Critical Point Dryer                                                                    
Plasma Preen                                                                    
Electrochemical Bench, 301 room                                                                    
Penta DC/RF Sputtering System                                                                    
Olympus LEXT 4000 confocal microscope                                                                    
K\&S Wire bonder - wedge                                                                    
K\&S Wire bonder - ball                                                                    
Monday, 25/09/2017 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite                                                                    
301 Oven Vulcan                                                                    
AJA ION Milling                                                                    
Versaline_DSE                                                                    
Suss MA-6 double side Mask Aligner                                                    
Suss RC-8 spin coater                                                                    
Headway spin coater                                                                    
Nextral 860 RIE/HDP plasma etcher                                                                    
PlasmaTherm SLR-770 ICP Deep Reactive Ion Etcher                                                                    
EDWARDS-306 e-beam evaporator                                                                    
MRC 8620 RF Sputtering System                                                                    
Vacuum oven 301                                                                    
Silicon wet etch station (Double book allowed)                                                                    
Wet bench for acid processes (Double book allowed)                                                                    
Photoresist deposition bench (Double book allowed)                                                    
Photoresist developing/samples cleaning bench (Double book allowed)                                                    
KLA P16 Stylus Profiler                                                                    
Woollam M-2000 DUV Spectroscopic Ellipsometer                                                                    
DISCO 3350 dicing saw                                                                    
Oerlikon 790 series PE CVD system                                                                    
Jipelek JetFirst 100 Rapid Thermal Processor                                                                    
Tousimis Critical Point Dryer                                                                    
Plasma Preen                                                                    
Electrochemical Bench, 301 room                                                                    
Penta DC/RF Sputtering System                                                                    
Olympus LEXT 4000 confocal microscope                                                                    
K\&S Wire bonder - wedge                                                                    
K\&S Wire bonder - ball                                                                    
Tuesday, 26/09/2017 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite                                                                    
301 Oven Vulcan                                                                    
AJA ION Milling                                                                    
Versaline_DSE                                                                    
Suss MA-6 double side Mask Aligner                                                                    
Suss RC-8 spin coater                                                                    
Headway spin coater                                                                    
Nextral 860 RIE/HDP plasma etcher                                                                    
PlasmaTherm SLR-770 ICP Deep Reactive Ion Etcher                                                                    
EDWARDS-306 e-beam evaporator                                                                    
MRC 8620 RF Sputtering System                                                                    
Vacuum oven 301                                                                    
Silicon wet etch station (Double book allowed)                                                                    
Wet bench for acid processes (Double book allowed)                                                                    
Photoresist deposition bench (Double book allowed)                                                                    
Photoresist developing/samples cleaning bench (Double book allowed)                                                                    
KLA P16 Stylus Profiler                                                                    
Woollam M-2000 DUV Spectroscopic Ellipsometer                                                                    
DISCO 3350 dicing saw                                                                    
Oerlikon 790 series PE CVD system                                                                    
Jipelek JetFirst 100 Rapid Thermal Processor                                                                    
Tousimis Critical Point Dryer                                                                    
Plasma Preen                                                                    
Electrochemical Bench, 301 room                                                                    
Penta DC/RF Sputtering System                                                                    
Olympus LEXT 4000 confocal microscope                                                                    
K\&S Wire bonder - wedge                                                                    
K\&S Wire bonder - ball                                                                    
Wednesday, 27/09/2017 06:00 07:00 08:00 09:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00
301 Oven Carbolite